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フォトリソグラフィ半導体(IC、LSI)の

露光工程において微小パターン形成には、波長の短い光を用いた露光が必要となる。このフォトリソグラフィには、紫外線が使用される。フォトリソグラフィでは、半導体表面に塗布された、フォトレジストと呼ばれる感光性の樹脂に、フォトマスクと呼ばれるガラス板上に描かれた図形を通して紫外線を照射し、マスク上に書か..
update:2009年08月22日
【人生の教訓】
・一生を洗い流してくれるのはただ酒だけである。 by韓愈